靶材是通過(guò)磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當(dāng)工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡(jiǎn)單說(shuō)的話，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長(zhǎng)的激光與不同的靶材相互作用時(shí)，會(huì)產(chǎn)生不同的殺傷破壞效應(yīng)。例如：蒸發(fā)磁控濺射鍍膜是加熱蒸發(fā)鍍膜、鋁膜等。更換不同的靶材（如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。 有關(guān)鈦靶、鎳靶、鉻靶、鋯靶等常規(guī)靶材的應(yīng)用及分類方法，巨偉鈦業(yè)結(jié)合多年靶材深加工經(jīng)驗(yàn)與相關(guān)資料，整理如下：

1、靶材的應(yīng)用

1）用于顯示器上 

靶材目前被普遍應(yīng)用于平面顯示器（FPD)上。近年來(lái)，平面顯示器在市場(chǎng)上的應(yīng)用率逐年增高，同時(shí)也帶動(dòng)了ITO靶材的技術(shù)與市場(chǎng)需求。ITO靶材有兩種，一種是采用銦錫合金靶材，另外一種是采用納米狀態(tài)的氧化銦和氧化錫粉混合后燒結(jié)。 

2）用于微電子領(lǐng)域 

靶材也被應(yīng)用于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，相對(duì)來(lái)說(shuō)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)對(duì)于靶材濺射薄膜的品質(zhì)要求是比較苛刻的。現(xiàn)在12英寸（300衄口）的硅晶片也被制作出來(lái)，但是互連線的寬度卻在減小。目前硅片制造商對(duì)于靶材的要求都是大尺寸、高純度、低偏析以及細(xì)晶粒等，對(duì)其品質(zhì)要求比較高，這就要求靶材需要具有更好的微觀結(jié)構(gòu)。 

3）用于存儲(chǔ)技術(shù)上 

存儲(chǔ)技術(shù)行業(yè)對(duì)于靶材的需求量很大，高密度、大容量硬盤(pán)的發(fā)展，離不開(kāi)大量的巨磁阻薄膜材料，CoF~Cu多層復(fù)合膜是如今應(yīng)用比較廣泛的巨磁阻薄膜結(jié)構(gòu)。磁光盤(pán)需要的TbFeCo合金靶材還在進(jìn)一步發(fā)展，用它制造出來(lái)的磁光盤(pán)有著使用壽命長(zhǎng)、存儲(chǔ)容量大以及可反復(fù)無(wú)接觸擦寫(xiě)的特點(diǎn)。

2、靶材的分類

靶材有哪些？

靶實(shí)際上是一個(gè)寬泛的概念，靶材的三類劃分方法：1.按外形尺寸可分為圓柱形、長(zhǎng)方形、正方形板靶和管靶。 按材質(zhì)分靶材可分為金屬靶材、高分子陶瓷非金屬靶材和合金靶材等;2.按材質(zhì)分靶材可分為常規(guī)金屬靶材，貴金屬靶材，稀土金屬靶材，非金屬靶材，合金濺射靶材，陶瓷濺射靶材等;3.按照應(yīng)用領(lǐng)域可分為半導(dǎo)體用靶材、顯示面板用靶材、太陽(yáng)能電池用靶材、磁記錄用靶材等。

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